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氮化钛涂层物理气相堆积法优缺陷有哪些
 氮化钛涂层多弧堆积办法的优缺陷：
氮化钛涂层多弧堆积办法( MAP)是一种使用广泛的物理气相堆积技能，具有高的离化率和堆积离子能量，有助于反响成膜、进步薄膜质量及薄膜与基体的结合力。
缺陷：

多弧技能堆积的涂层中残留了由阴极材料射出的微观颗粒（即所谓的“液滴”）。这些颗粒粒径可达数十微米，导致涂层强度削弱、表面粗糙度添加、膜层均匀性降低一级缺陷，使其在较恶劣工作环境下的使用受到束缚。孔洞缺陷也是电弧离子镀膜中普遍存在的一种缺陷，依据不同的镀膜方式与工艺条件所制备的薄膜，其孔洞缺陷不同也很大。别的，疏松与缝隙也是电弧离子镀氮化钛涂层中呈现的缺陷。

<a href=http://www.hedaotech.com/news_article.html?news_id=123>氮化钛涂层</a>

优点：
氮化钛涂层该办法使用磁场发生的旋转力进步弧斑的旋转运动速度，减少弧斑在靶面的停留时间,然后减小弧斑规范，在一定程度上消除微观粒子团，减少柱状结构，制备的氮化钛涂层结构愈加细密、表面愈加光滑、晶粒较为纤细。选用FCAP办法制备的氮化钛涂层具有更高的硬度和结合力。

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